v?采用閉環控制伺服電機，數字式增速信號反饋，速勻準確，壽命長，保證勻膠的均一性。
v?5寸全彩觸摸屏，智能程序化可編程操控顯示，標配10個勻膠梯度階段（速度和時間梯度設置），可選配10個可編程程序，每個程序下可設置10個勻膠梯度階段，z多100個階段。
v?內置水平校準裝置，大限度的保證旋涂均勻，可對大小不同規格的基片進行旋涂。
v?多重安全保護:
??電磁安全開關，蓋子打開卡盤停止，保證安全；
??蓋子自鎖功能，防止飛片蓋彈開傷人；
??雙重安全上蓋，聚四氟嵌鑲鋼化玻璃，避免單一玻璃或者亞克力上蓋飛片傷人，大限度保證實驗人員安全。
v?樣品托盤卡口和樣品托盤之間三重密封安全保護，有效降低電機進膠的風險。
v?一機兩用，根據不同樣品可選真空吸盤和非真空卡盤兩種旋涂方式。
v?符合人體功能學的水平取放樣品旋涂托盤設計，取放樣品更方便。
v?不銹鋼噴塑涂層旋涂殼體，旋涂腔體采用PTFE材料。旋涂托盤采用聚丙烯（NPP-H）材料，耐酸堿防腐蝕，保證儀器在苛刻條件下仍能正常運行。
v?上下雙腔體設計，較大的上腔體便于擦拭去除膠液，錐形下腔體結構設計便于收集膠液，并帶廢膠收集裝置
v?可選氮氣吹干、氮氣保護，自動滴膠或簡易滴膠裝置，提供更多的操作便利性。
v?適用硅片、玻璃、石英、金屬、GaAs，GaN，InP 等多種材料。
勻膠機是一種常見用于材料薄膜制備工藝的實驗室設備，它的原理相對比較簡單，利用電機高速旋轉時所產生的離心力使得試液或者膠液均勻地涂敷在基底材料的表面，顧名思義，一種可以“讓膠液均勻涂敷的機器”。勻膠機有很多稱謂，勻膠臺，旋轉涂膜機，旋轉涂層機或者旋轉涂敷機等等，它的英文是Spin Processor：旋轉涂膜的意思。
勻膠過程中基片的加速度也會對膠膜的性能產生影響。因為在基片旋轉的階段，光刻膠就開始干燥（溶劑揮發）了。所以準確控制加速度很重要。在一些勻膠過程中，光刻膠中50%的溶劑就在勻膠過程開始的幾秒鐘內揮發掉了。在已經光刻有圖形的基片上勻膠，加速度對膠膜質量同樣起重要作用。在許多情況下，基片上已經由前面工序留下來的精細圖形。因此，在這樣的基片上穿越這些圖形均勻涂膠是重要的。勻膠過程總是對光刻膠產生離心力，而恰恰是加速度對光刻膠產生扭力（twisting force）,這個扭力使光刻膠在已有圖形的周圍散開，這樣就可能以另一種方式用光刻膠覆蓋基片上有圖形的部分。
| 型號 | 轉速（轉/分） | 轉速穩定度 | 勻膠時間 | 旋涂基片尺寸mm | 外型尺寸（LxWxH）mm |
| SC1 | 50-10000 | ±1％ | 0-2000秒 | 圓片Φ5-Φ100,方片z大100×100 | 310x260x250 |
